Аппараты для ионной имплантации в области выпуска полупроводников могу быть также полезны и для создания пленок, и для внесения различных примесей в рабочие слои будущих чипов процессоров. Ионный луч аппарата сможет воздействовать с разной силой в зависимости от его имеющейся мощности.